申请的主要专利：

[1]   一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料，申请号02155461.7，已授权.

[2]   纳米级抛光液及其制备方法，申请号00133674.6，已授权.

[3]   一种用于存储器硬盘磁头超精研磨的研磨油，申请号200510011127.4，已授权.

[4]   一种用于存储器硬盘磁头背面研磨的研磨液，申请号200510011128.9，已授权.

[5]   一种硬盘盘基片抛光组合物. 申请号200910077036.9，已公开.

[6]   一种用于砷化镓晶片的抛光组合物. 申请号200910077080.x，已公开.

[7]   超高纯酸性二氧化硅溶胶的纯化方法及纯化工艺. 申请号200910077035，已公开.

[8]   一种用于硅晶片抛光的抛光组合物. 申请号200810247567.3，已公开.

[9]   一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液. 申请号200810117832.6，已公开

[10] 一种用于化学机械抛光的抛光头. 申请号200810118704.3，已公开.

[11] 硬盘用微致动器中的多层膜压电元件及其制备方法. 申请号200410009092.6，已公开.

[12]  一种用于玻璃模具表面的Ni-W-纳米CeF3复合镀层及电镀方法与电解液. 申请号200810246694.1，已公开.

[13] 一种集成电路铜布线电沉积用的电解液. 申请号200810246695.6，已公开.

[14] 一种内循环冷却抛光盘. 申请号200910083720.8，已公开.

[15] 一种电机内置式抛光机转台. 申请号200910083589.5，已公开

[16] 集成外转子式直驱抛光机转台. 申请号200910083590.8，已公开.

[17] 一种用于对抛光垫进行修整的修整装置. 申请号200910089150.3，已公开.

[18] 用于精定位微致动器的多层膜压电元件及其制备方法. 申请号200410009090.7，已公开.

[19]一种金属薄膜厚度的电涡流测量方法. 申请号201010129185.8，已公开.

[20]一种用于玻璃模具表面的复合镀层及其电镀方法. 申请号200910237485.5，已公开.

[21]一种润滑剂膜厚测量仪. 申请号200910219284.2，已公开.