硅抛光片是制造IC芯片的基础材料，高品质的硅单晶抛光片是基本条件。目前IC技术已迈进了纳米电子时代，对硅单晶抛光片的表面加工质量要求愈来愈高。
实验室已经进行了多年的集成电路硅晶片抛光技术及超精抛光液研究，在总厚度变化、微粗糙度、抛光液循环使用寿命等关键技术指标方面形成突破，达到甚至超过国际先进抛光液的技术水平，相关抛光液在国内硅片抛光生产线上获得应用，替代了国外进口抛光液。