随着垂直磁记录技术的应用，计算机硬盘存储密度大幅度提高。同时，硬盘磁头的飞行高度进一步降低，这就要求硬盘盘基片表面更加光滑、表面粗糙度更小。
本研究方向主要致力于计算机硬盘盘基片（铝基片与玻璃基片）的超精密表面抛光。一直以来，与国内最大的硬盘盘基片制造商保持长期合作，主要技术指标如硬盘盘基片的表面波纹度Wa、表面粗糙度Ra等达到国际先进水平。具体包括：
1)硬盘铝基片粗抛液的研究与开发
2)硬盘铝基片精抛液的研究与开发
3)硬盘玻璃基片抛光液的研究与开发