【产品简介】

    本产品采用Al₂O₃颗粒作为磨料，添加一系列抛光化学助剂，如氧化剂、腐蚀剂、表面活性剂、稳定剂等，对硬盘盘基片具有较高的抛光速度，同时能较大程度降低盘基片表面粗糙度，抑制表面缺陷的产生。

【主要用途】

    硬盘盘基片表面粗抛光。

【主要参数】

    本产品由A、B两组分组成；

    组分A：颗粒粒径500nm，PH 3～4, 比重 1.1～1.25；

    组分B：PH 2～4, 比重 1.0～1.2。

【技术指标】

    抛光去除速率在0.8μm/min以上；

    抛光后表面粗糙度(Ra)在2埃以下；

    抛光后表面无点蚀、凹坑、深划痕、粘污等缺陷。

【使用方法】

    将A组分、B组分、去离子水按体积比1：1：5混合后使用（注：请先将B组分与去离子水混合，之后将A组分倒入不断搅拌的B组分与去离子水混合液中）。

【包装】

     20kg/桶。

【储存】

    储存温度2～40℃；

    避光通风储存，保质期为一年。